ASML 擬 2028 年前把 EUV 光刻機年產量提升至逾 110 台，英偉達與台積電帶動晶片設備需求

ASML 預示人工智能驅動的晶片設備需求將持續超過供應直至2028年，EUV 產量每年超過110台。該指引突顯 Nvidia 和 TSMC 的持續資本支出，強化半導體上行週期。看好光刻機供應商及更廣泛的人工智能硬件供應鏈，儘管上行空間已部分反映在價格中；短期反應可能對半導體及設備股有利。