ASML apunta a unas 65 unidades de EUV de baja NA en 2026 tras el impulso de Samsung
Resumen del mercado generado por IA
La dirección de ASML ha elevado dos veces la guía de ingresos para 2026 y ahora espera ~65 envíos de sistemas EUV low-NA, lo que implica un crecimiento de los ingresos de EUV de más del 45% interanual en 2026. La participación de Samsung junto con Intel, TSMC y SK hynix indica una ampliación de la demanda de litografía de próxima generación, respaldando un nuevo ciclo de actualización de EUV. También se espera que lo no EUV repunte en 2026, aunque los riesgos de control de exportaciones hacia China y el exceso de inventario de DUV siguen siendo incertidumbres clave.
Nivel de impacto
● Media
Activos afectados
NCSKASML2USD/USDT+0.63%
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▲ Alcista
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La dirección de ASML elevó en dos ocasiones su guía de ingresos para 2026, que había comenzado en €34€39 billion. La compañía prevé entregar alrededor de 65 sistemas de litografía EUV de baja NA y que los ingresos por EUV crezcan más de un 45% interanual en 2026. Tras una caída de un dígito medio en 2025, las ventas no asociadas a EUV se esperan al alza un 25% en 2026. La demanda de clientes como Samsung está impulsando el siguiente ciclo de crecimiento de EUV.
